F05500 - SEMI F55 - マスフローコントローラの耐腐食性を求めるための試験方法

NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. 免責事項：　このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡ SEMIスタンダード日本語翻訳版をご利用にあたっての注釈を本文の末尾に記載しております（「すべきである」「しなければならない」について等）。   本スタンダードは，Gases Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年12月24日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2012年4月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は2000年6月発行。前版は2007年3月発行。 　 注意: 本文書は，編集上の修正を伴い，再承認された。 　 マスフローコントローラ（MFC）は，好ましくない条件のもとで腐食性ガスを制御するために使用されることが多い。この試験方法は，腐蝕によって誘発される欠陥に対する相対的耐性に基づいてMFC設計を区別するのに役立つことを意図している。 範囲 この試験は，HClなどの腐食性ガスが大気中の水分などの酸化剤によって汚染されているときに起こる腐蝕の影響を示すことを目的とする。この試験の目的に望ましい試験ガスはHClであるが，他のガスでもこの試験を実施することができる。この試験方法では，MFCを対象とした腐食性ガス曝露試験について説明する。この試験は，半導体産業で使用されるプロセス装置とガスシステムの内部に見られる状態をシミュレートしながら，腐蝕を加速することを意図している。腐蝕と性能との関係はMFC設計によって異なる場合があるため，腐蝕は直接測定されない。腐蝕の影響は，MFCの校正における変化と他の動作パラメータを観察することによって検出する。 　 Referenced SEMI StandardsSEMI F1 — Specification for Leak Integrity of High-Purity Gas Piping Systems and Components